株式会社スターワークス - 半導体製造イオン注入工程のプロセスエンジニア/年収UP可能/スキルアップ/土日休みの求人詳細情報

仕事内容

*＜＜当社のおすすめ＞＞*
⭐️嬉しい賞与あり！
⭐️土日祝休み！プライベートも充実です！
⭐️6割負担の住宅手当など各種支援金が充実！

スタート前や入職後にはキャリア面談を実施！
理想のキャリアプランや悩み相談にも対応します！
経験者の方は現場で即戦力としてご活躍いただけます！

大手総合電機メーカーグループの半導体製造会社にて、イオン注入工程のプロセスエンジニアを担当いただきます。丁寧に研修および教育を受けていただきますので安心して就業できます。

イオン注入とはイオン化した物質を固体に注入することによって、その固体の特性を変化させる加工方法です。

半導体製造における前工程などでは、イオン注入を用いることによって、ウェハに適度な不純物を導入することができ、半導体デバイス特性を向上させることができます。

概要として以下の業務をお任せします。
・イオン注入装置の選択
・イオン種の選択
・イオン注入量の設定
・イオン注入条件の設定
・イオン注入プロセスの評価などを行い、半導体ウェーハに必要な不純物を注入

イオン注入は以下の特徴があります。
・注入深さ制御可能：イオンの注入深さは、加速電圧を調整することで制御可能です。侵入深さは最大でも1μmと比較的浅い領域です。
・注入量が測定可能：ウェーハに流れ込むイオン電流を測定することで、イオンの注入量が定量可能です。
・高純度に注入可能：質量分離器により不要な元素・イオンを除去できるため、熱拡散法よりも高純度に注入可能です。
・位置精度が高い：イオンビームは直進性が高い為、狙った位置にイオンを注入できます。複雑で微細なデバイス構造の作成に有利です。
・回復熱処理が必要：イオン注入されると、注入された領域が非晶質化するため、必ず回復熱処理が必要です。

＜注入の流れ＞
①イオン源
目的の不純物元素を発生させます。PH3(ホスフィン)やB2H6(ジボラン)といった原材料ガスが使用されます。
②引出電極
発生したイオンを正の電界によって引き出します。電界を発生させるための電圧を「引き出し電圧」と呼びます。
③質量分析器
磁場の作用で不要なイオンを除去します。不要なイオンとしては、目的の不純物以外の元素や、多価イオンなどがあります。
④分析スリット
質量分析の分解能を向上させるためのスリットです。スリット幅が狭いほどイオンの選択精度が向上します。
⑤加速管
電場をかけた管にイオンを通すことで、注入に必要な加速エネルギーをイオンに与えます。
⑥偏向器
イオンの入射位置を精度よく制御するため、イオンビームを偏向します。
⑦Qレンズ
広がっているイオンビームを、磁界により絞るレンズです。
⑧走査器
イオンビームの方向を操作する装置です。イオンビームは照射径が小さい為、ウェーハ全面に当てるには操作する必要があります。

イオン注入プロセス開発は、半導体製造プロセスの重要な工程の一つであり、半導体デバイスの性能を左右する重要な役割を果たしています。

この仕事のやりがい

充実したスキルアップ補助制度を完備✨最新技術に携われる・希望配属率94％✨転居後家賃の6割補助の住宅手当制度あり(※規定あり)✨

対象となる方

*【活かせる経験・スキル】*
・高専や大学・大学院にて化学、物理学、機械工学、材料工学、電気工学、高分子化学、応用物理（光・真空・イオン）、電子工学のいずれかの学部学科での学習・研究経験

選考について

ーーーーー*【ご応募の流れ】*ーーーーー

⏩応募画面よりご応募
⏩担当者よりご案内
⏩書類選考・面接
⏩選考結果のご案内
⏩お仕事開始

ーーーーーーーーーーーーーーーーーー

＼＼゜+お会いできるのを楽しみにしております.゜+.／／